Версия для печати

Ремонт и восстановление

Оборудование нового поколения и технология плазменно-порошковой наплавки деталей энергетической, нефтехимической и общепромышленной арматуры

Описание

Установки для плазменно-порошковой наплавки порошками на основе железа, никеля или кобальта могут размещаться в составе автоматической линии или в виде отдельного агрегата. Значительным преимуществом плазменно-порошковой наплавки является малое проплавление основного металла и возможность получения в первом наплавленном слое высококачественного металла необходимого химического состава и свойств. Это особенно важно в случае применения для наплавки дорогостоящих наплавочных материалов на основе никеля или кобальта.
Установки оснащены современными системами управления с использованием промышленных компьютеров, что значительно улучшает качество, повышает стабильность и надежность процесса наплавки. В установках использован плазматрон новой конструкции, разработанный в последние годы в Институте электросварки им. Е О. Патона. В плазматроне применена боковая схема подачи порошка, он рассчитан на работу с максимальным током до 400 А. При боковой схеме подачи порошка увеличивается производительность процесса, уменьшаются потери порошка, расширяются области применения процесса, т. к. имеется возможность наплавки порошков из магнитных сплавов.
Установки соответствуют современным требованиям экологической безопасности. Они оснащены автономным блоком водяного охлаждения и защитной камерой, которая полностью предохраняет работающих от вредного воздействия излучения плазменной дуги и выделяющихся при наплавке газов и пыли.
Блочно-модульный принцип позволяет после замены двух-трех блоков-модулей программы управления производить высококачественную наплавку других деталей: например, клапанов двигателей внутреннего сгорания различных типоразмеров, ножей горячей и холодной резки металлов и неметаллических материалов и др. Это значительно расширяет область применения установок для плазменно-порошковой наплавки.

Состав оборудования

Полуавтоматическая установка с компьютерным управлением для плазменно-порошковой наплавки состоит из следующих основных блоков:
  • система компьютерного управления;
  • источник высокого напряжения;
  • источник питания вспомогательной и основной дуги;
  • плазматрон;
  • питатель порошка;
  • вращатель наплавляемой детали;
  • система загрузки, фиксации и выгрузки наплавляемых деталей;
  • система установочных перемещений и позиционирования плазматрона;
  • блок автономного охлаждения;
  • блок подачи газа;
  • защитная камера.

Назначение и технические характеристики

1. Система компьютерного управления предназначена для программного управления работой установки и обеспечивает выполнение повторяемого цикла операций по загрузке, фиксации, наплавке (включая управление параметрами режима) и выгрузке заготовок при наплавке серии деталей одного типа.
2. Плазматрон новой конструкции с боковой подачей порошка обеспечивает:
  • ток вспомогательной дуги до 40 А;
  • номинальный ток основной дуги - 300 А,
  • максимальный - 400 А: ПВ - 100 %;
  • максимальная производительность 6 кг наплавленного металла в час.
3. Питатель порошка обеспечивает:
  • подачу порошка грануляции 63...200 мкм;
  • диапазон скоростей подачи порошка 5... 100 г/мин;
  • емкость бункера 2 дм3; ПВ - 100 %.
4. Вращатель наплавляемой детали обеспечивает:
  • возможность внешнего программного управления скоростью вращения детали;
  • вращение деталей массой до 20 кг и диаметром от 30 до 200 мм;
  • диапазон скоростей вращения 0,1...2,0 мин-1; ПВ – 100%.
5. Система загрузки, фиксации и выгрузки наплавляемых деталей обеспечивает
  • захват и установку заготовок на позицию наплавки;
  • захват наплавленной заготовки с позиции наплавки,
  • сброс наплавленной заготовки в контейнер.
6. Система технологических, установочных перемещений и позиционирования плазматрона обеспечивает:
  • наклон плазматрона в двух плоскостях (± 15°);
  • позиционирование плазмотрона по осям X и У (до 150 мм по каждой оси);
  • амплитуду колебаний плазматрона в пределах 2. ..25 мм при частоте колебаний 8...80 мин-1.
7. Блок автономного охлаждения обеспечивает:
  • давление воды не менее 0,3 МПа,
  • расход воды не менее 10 л/мин.
8. Блок подачи газа обеспечивает следующие расходы газа:
  • плазмообразующего 1…3 л мин;
  • транспортирующего 4...6 л/мин;
  • защитного 10...20 л/мин.
Рабочий газ – аргон.
9. Защитная камера полностью предохраняет работающих от вредного воздействия излучения плазменной дуги и выделяющихся при наплавке газов и пыли.

Область применения

Ремонт деталей энергетической, нефтехимической и общепромышленной арматуры.
Предыдущая Следующая

Новости

2018.04.14 Опубликована Программа международной конференции «Титан 2018. Производство и применение в Украине»
2018.01.07 Сайт перешел на безопасный HTTPS протокол.
2017.07.19 Новый раздел сайта Достижения
2017.03.03 24.01.2017 прошел семинар «Сварочные материалы», посвященный 90-летию со дня рождения академика Игоря Константиновича Походни (Подробнее)
2017.03.03 Создание совместного китайско-украинского научно-исследовательского центра «Чжунзи-Патон» в области сварочных технологий в г. Яньтай, КНР (Подробнее)
Новая страница Государственное предприятие Научно-производственный центр «Титан»
Распродажа

Распродажа сварочного оборудования

Цена ниже цены производителя!

Рекомендуем посетить обновленный сайт журнала "Сварщик"!

Получен Сертификат на аппараты серии ЕКВЗ-300 ПАТОНМЕД®!

Контакты:

Научно-технический комплекс "Институт электросварки им. Е. О. Патона" (НТК ИЭС) НАН Украины
03150 Украина, г. Киев, ул. Антоновича, 66
телефон/факс: (+38044) 2875529
E-mail: office@stc-paton.com
            proskudin@ntk.in.ua
Обучение персонала сварочного производства и сертификация продукции сварочного и родственных производств
Телефон для справок: (+38044) 456-63-30